全球晶圆代工厂关注硅光刻技术的演变
随着硅光刻技术的不断演进,GlobalFoundries 最近公布了有关其7纳米制程技术的更多详细信息。如去年9月所宣布的,该公司将拥有多代的7纳米FinFET制造工艺,其中还将包括使用极紫外光刻技术(EUV)的版本。GlobalFoundries 现在透露,其7LP(7纳米领先性能)技术将延续三代,并将为客户提供高达700平方毫米的芯片制造能力。
7LP技术的重要性和影响
7LP技术是GlobalFoundries在先进半导体制程方面的重要突破。通过该技术,该公司不仅提升了制程的精度,更实现了性能上的显著跃升。这一突破对于GlobalFoundries的客户来说,意味着他们可以制造出更为复杂和先进的芯片,以满足市场日益增长的高性能需求。
EUV技术在7LP中的应用
值得一提的是,GlobalFoundries在7LP技术中引入了EUV技术。EUV技术以其高分辨率和高效率在半导体制造领域备受推崇。通过运用EUV技术,GlobalFoundries可以在更小的空间内刻画更为复杂的芯片图案,进一步提升芯片的性能和可靠性。
展望未来
随着技术的不断进步,GlobalFoundries将继续在半导体制程领域探索和突破。我们期待其未来能够带来更多先进的制程技术,以满足全球市场对高性能芯片的需求。